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Adobe InDesign CS4,
de la création au gabarit
Vous avez différentes idées de maquettes que vous souhaitez créer et réaliser rapidement ?
Ce séminaire vous donnera toutes les astuces pour passer du processus créatif au stade de la production du document, le plus rapidement possible. Définissez plusieurs gabarits et des gabarits imbriqués, intégrez des documents Word en conservant leurs styles et obtenez rapidement des maquettes que vous allez pouvoir mettre à jour et finaliser en un temps record.
Mardi 9 février 2010 | 11h30 à 12h30
Adobe Photoshop CS4 et CS4 Extended : lumière sur les Calques Photoshop s'est enrichi au cours des versions successives de différents types de calques (Bitmap, Remplissages, Réglages, Texte, Objets Dynamiques, Vidéo et 3D). Nous ferons dans ce séminaire un tour d'horizon de leur nature respective et de leurs gestions.
Mardi 9 mars 2010 | 11h30 à 12h30
L'Animation dans Flash CS4
Donnez plus de vie à vos animation grâce au nouveau modèle d'animation (animation directe sur l'objet, Cinematique Inverse et mouvements 3D).
Mardi 23 mars 2010 | 11h30 à 12h30 |
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Gestion et préparation des imports
dans Flash CS4
Flash CS4 importe un grand nombre de formats de fichier. Comment préparer les imports d'images dans Photoshop CS4 (Processeur d'images, Pile de calques… et préférences d'importation PSD dans FL) ?
Préparation de boutons/éléments d'interface
dans Illustrator CS4 (import en images clés…) ? Comment encoder des vidéos pour intégrer
dans FL (Adobe Media Encodeur...) ?
Mardi 16 février 2010 | 11h30 à 12h30
Les panneaux Aspects et Styles graphiques d'Illustrator CS4
Avec le panneau de Calques, le panneau d'Aspects est certainement la plus importante d'Illustrator et reste pourtant méconnue. Il décuple les possibilités créatives et productives d’Illustrator, d’autant plus si on l’utilise avec le panneau Styles graphiques.
Mardi 16 mars 2010 | 11h30 à 12h30
Adobe Photoshop CS4 et CS4 Extended : lumière sur les Masques
Dans ce séminaire, nous allons mettre en lumière une notion clé de Photoshop : les masques. ils peuvent être bitmap et/ou vectoriels, mais aussi d'écrêtage, ou encore par comparaison ainsi que par fusion avancée. Nous éclaircirons, au cours de cette session, leur cadre d'application.
Mardi 30 mars 2010 | 11h30 à 12h30
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